hfo2论文_学术之家

高介电氧化铪薄膜的制备与性能研究第52-55页

关键词: hfo2 薄膜磁控溅射介电常数

2019年第05期《真空》

热ALD和等离子增强ALD沉积HfO2薄膜的比较(英文)第795-802页

关键词: 介电常数

2019年第10期《半导体技术》

二氧化铪（HfO2）薄膜制备的研究进展第10-12页

关键词: hfo2 薄膜研究进展

2009年第02期《陶瓷》

HfO2／SiO2增透膜激光诱导损伤形貌分析第90-92页

关键词: 增透膜激光诱导损伤损伤形貌

2015年第04期《广州化工》

微波ECR等离子体刻蚀AAO模板中HfO2薄膜的研究第19-23页

关键词: 等离子体刻蚀 hfo2 ecr 形貌

2019年第01期《真空与低温》

p-Si(100)衬底上反应磁控溅射制备HfO2薄膜的工艺和性能研究第99-106页

关键词: 反应磁控溅射 hfo2 薄膜工艺性能

2019年第02期《功能材料与器件学报》

Nd2O3掺杂的HfO2高k栅介质薄膜ALD制备及性能研究第780-784页

关键词: nd2o3 hfo2 原子层沉积掺杂氧空位高k

2018年第07期《稀有金属》

Sc2O3掺杂对Y2O3-Gd2O3-HfO2难熔稀土氧化物直热式阴极热发射性能的影响第131-135页

关键词: 直热式阴极 sc2o3掺杂热发射电流密度

2019年第02期《真空科学与技术学报》

变组分Al对HfO2阻变特性影响:第一性原理研究第73-79页

关键词: hfo2 第一性原理间隙al 晶格结构

2019年第11期《物理学报》

高k HfO2栅介质淀积后退火工艺研究第285-290页

关键词: hfo2 等效氧化层厚度平带电压栅极泄漏电流

2018年第04期《半导体技术》

激光预处理对HfO2光学薄膜微观性能的影响第187-196页

关键词: 薄膜抛光激光预处理 hfo2 氧化

2018年第02期《光电子激光》

采用HfO2/SiO2溶胶-凝胶薄膜制备衍射光栅第133-135页

关键词: 信息光学光栅光敏

2008年第01期《光子学报》

Hf基高K栅介质材料研究进展第20-23页

关键词: 高介电常数栅介质材料 hfo2 hfsion 层叠结构高k栅介质 hf 材料研究 mosfet 微电子技术

2005年第11期《材料导报》

HfO2薄膜的反应离子刻蚀特性研究第313-316页

关键词: hfo2 反应离子刻蚀刻蚀速率刻蚀工艺刻蚀气体频偏键合薄膜 no2 轰击

2004年第04期《真空科学与技术学报》

HfO2在CHF3，Ar和H2的感应耦合等离子体中的刻蚀行为第309-312页

关键词: hfo2 刻蚀光刻胶光栅频偏图形转移光波长感应耦合等离子体衍射效率非挥发性

2004年第04期《真空科学与技术学报》

具有辐射聚合能力的HfO2／SiO2溶胶-凝胶玻璃的制备及其X射线光刻性能研究第1376-1379页

关键词: 辐射聚合光栅

2006年第07期《高等学校化学学报》

HfO2／Si（001）界面层的TEM研究第81-82页

关键词: hfo2 tem 界面层高k栅介质微电子技术 mos器件等效厚度

2006年第B08期《电子显微学报》

化学法制备的HfO2薄膜的激光损伤阈值研究第403-407页

关键词: hfo2薄膜热处理紫外辐照激光损伤阈值

2007年第03期《强激光与粒子束》

先进的Hf基高k栅介质研究进展第1194-1199页

关键词: 高介电常数 hfo2 hfon hfsion hftaon

2007年第04期《电子器件》

HfTiO高k栅介质Ge MOS电容的制备及特性分析第583-585页

关键词: gemos hftio hfo2 介电常数界面态密度

2007年第05期《压电与声光》