作者：杨利红; 薛鹏成; 王涛; 苏俊宏薄膜抛光激光预处理hfo2氧化
摘要：研究了在1-on-1方式下激光预处理对HfO2光学薄膜微观形貌、微观结构等性能的影响。实验采用薄膜阈值能量的10％、30％、50％和70％对HfO2薄膜进行激光预处理，利用原子力显微镜（AFM）分别对预处理后薄膜表面10μm×10μm和3μm×3μm的区域进行测试，与预处理前相比，预处理后的薄膜所含杂质减少，薄膜表面锥状结构变得平滑；利用X射线衍射（XRD）和X射线光电子能谱（XPS）分别对预处理后薄膜的晶态结构和化学键以及价态进行测试，与预处理前相比，预处理后薄膜的晶态结构、化学键及价态均没有发生变化；利用XPS对预处理后薄膜所含的成分进行测试，与预处理前相比，预处理后薄膜中所含的Hf单质减少，HfO2增多。实验结果表明，激光预处理具有抛光和氧化膜层的作用。
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