化学机械抛光论文

优化半绝缘GaAs双抛片精抛工艺的可行性探究第28-30页

关键词: 砷化镓半绝缘砷化镓化学机械抛光 ttv 精抛

2020年第02期《天津科技》

集成电路铜互连钌阻挡层异质材料去除选择性的研究第49-53页

关键词: 铜钌二氧化硅化学机械抛光硫酸铵 2

2020年第01期《电镀与涂饰》

紫外光和催化剂对GaN电化学特性及CMP速率的影响第783-789页

关键词: gan 电化学抛光速率紫外光催化剂

2019年第10期《半导体技术》

复合络合剂在阻挡层抛光液中的应用第870-875页

关键词: 复合络合剂去除速率碟形坑蚀坑

2019年第11期《半导体技术》

不同种类表面活性剂对a面蓝宝石衬底CMP的影响第883-887页

关键词: a面蓝宝石衬底表面活性剂去除速率表面粗糙度

2019年第11期《半导体技术》

IC铜布线CMP过程中缓蚀剂应用的研究进展第863-869页

关键词: 缓蚀剂结构性损伤电偶腐蚀

2019年第11期《半导体技术》

不同磨料对硬质合金刀片化学机械抛光的影响第144-150页

关键词: 硬质合金刀片化学机械抛光磨料硬度材料去除

2019年第10期《润滑与密封》

铜互连CMP中BTA的缓蚀机理及Cu-BTA的去除研究进展第1010-1015页

关键词: 铜缓蚀

2019年第12期《微纳电子技术》

单晶硅同质互抛实验研究第2773-2777页

关键词: 硅片硬脆材料互抛化学机械抛光对比实验抛光效果

2019年第23期《中国机械工程》

第三代半导体材料SiC平坦化技术的研究现状第73-75页

关键词: 碳化硅化学机械抛光半导体材料平坦化

2018年第11期《当代化工研究》

化学机械抛光技术研究第25-30页

关键词: 化学机械抛光抛光液吸附效应

2012年第01期《集成电路通讯》

原子级光滑表面的制造技术与机理研究第1-20页

关键词: 先进电子制造化学机械抛光纳米粒子行为抛光液材料去除机理摩擦学分子动力学模拟非晶化相变

2011年第04期《数字制造科学》

硬质多孔聚氨酯脲抛光垫材料的制备及性能研究第77-80页

关键词: 化学机械抛光力学性能聚氨酯脲

2013年第03期《化学推进剂与高分子材料》

电子材料表面抛光中化学和机械的平衡及其改善方法第56-58页

关键词: 表面抛光化学机械抛光电子材料

2012年第07期《中国高新科技》

高纯超细活性γ—Al2O3的应用及其研究进展第33-39页

关键词: 特种陶瓷催化剂化学机械抛光高纯超细粉体制备

2004年第02期《陶瓷科学与艺术》

单晶硅晶片化学机械抛光基本特性研究第163-166页

关键词: 砷化镓化学机械抛光抛光特性表面粗糙度

2019年第06期《兵器装备工程学报》

CMP光学终点在线实时判定方法研究第308-316页

关键词: 计量光强光谱化学机械抛光特征值

2019年第03期《中国计量大学学报》

化学机械抛光第59-60页

关键词: 计算机存储器水分散体系 mr传感器集成电路不均一性离子减薄英文转换器

2005年第04期《表面工程与再制造》

纳米粒子抛光液第12-12页

关键词: 抛光液化学机械抛光电子产品电子制造抛光技术性能纳米级制造水平关键要素手段

2005年第01期《表面工程与再制造》

化学钝化第59-60页

关键词: 化学钝化美国专利化学机械抛光钝化方法低介电常数有机硅氧烷英文电器件

2006年第06期《表面工程与再制造》