作者：狄韦宇; 郑永军; 卫银杰计量光强光谱化学机械抛光特征值
摘要：目的:通过研究光强光谱提取相应特征值作为化学机械抛光(CMP)终点监测判定方法。方法:首先由QE PRO光谱仪测得光强光谱,再通过移动平均滤波对信号进行滤波降噪,从处理后的信号中提取相应的信号特征值,并用两组数据对特征值进行分析以排除偶然性。结果:所发现的特征值:某一波峰与左拐点的波长差,具有良好的线性关系,并且计算量小,计算速度快。结论:发现的特征值可以作为CMP终点监测判定方法之一。
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