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世界领先的韩国制造商订购多套SEZ DA VINCI系列设备第150-150页
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SEZ盛邀世界级行业专家GLENN GALE出任FEOL清洗项目部副总裁第147-147页
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SEZ树单晶大旗,向芯片生产各环节渗透第98-98页
关键词: sez集团  芯片生产  单晶湿式清洗技术  技术创新  刻蚀设备  
2004年第05A期 《电子产品世界》
SEZ板蚀刻设备系列又添新丁第108-108页
关键词: sez集团  板蚀刻设备  单晶湿式清洗技术  ic封装  
2004年第02B期 《电子产品世界》
SEZ:单晶圆湿式制程是未来半导体技术发展的趋势第70-71页
关键词: 单晶圆  半导体技术  制程  趋势  解决方案  低介电常数  半导体芯片  sez集团  制造工艺  湿式处理  新材料  绝缘体  制造商  亚太区  总经理  需求  器件  
2005年第05期 《中国集成电路》
SEZ盛邀世界级行业专家GLENN GALE出任FEOL清洗项目部副总裁第66-67页
关键词: 项目部  总裁  世界级  专家  行业  2005年  sez集团  技术创新  技术市场  湿式清洗  半导体业  工艺过程  解决方案  技术标准  苏黎世  奥地利  单晶圆  全球  部门  客户  公司  
Aviza和SEZ就晶圆污染控制技术展开合作第27-27页
关键词: 污染控制技术  合作协议  晶圆  aviza科技公司  sez集团  高介电常数  原子层沉积  澳大利亚  技术形成  
2005年第09期 《集成电路应用》
SEZ捷报频传,喜获DONGBUANAM(东部亚南)半导体大单第34-34页
关键词: 单晶圆  湿式处理  旋转处理  韩国  sez集团  
2004年第05期 《集成电路应用》
SEZ喜获来自中国主要半导体厂商的重要订单第55-55页
关键词: sez集团  中国市场  旋转处理系统  半导体行业  
2004年第04期 《集成电路应用》
SEZ隆重推出单晶圆FEOL光阻去除的创新解决方案第6-6页
关键词: 光阻  单晶圆  化学试剂  sez集团  专有技术  制程  残留物  
2006年第08期 《中国集成电路》
SEZ部署了FEOL清洗产品特性全新的ESANTI单晶圆湿式平台第54-54页
关键词: 产品特性  湿式处理  单晶圆  清洗平台  sez集团  工艺过程