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光刻掩模的静电放电损伤及其防护第90-94页
关键词: 静电放电敏感度  光刻掩模  防护  半导体生产技术  电损伤  集成电路制造  光刻技术  制造过程  光刻工艺  
2005年第10期 《中国集成电路》
MEMS的微细加工技术第15-19页
关键词: 微型机械  微成形  mems  光刻掩模  激光刻蚀  liga  激光加工技术  
2006年第05期 《机床与液压》
产品第64-64页
关键词: 产品  cmos兼容  机械寿命  可靠性要求  光刻掩模  投影设备  sige  专利技术  
2010年第01期 《微纳电子技术》
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