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利用Raman光谱测定硅(100)晶面单轴应变的应变系数
第1033-1038页
关键词: raman光谱 应变硅 晶格振动
2010年第07期
一种非对称双栅
应变硅
HALO掺杂沟道MOSFET阈值电压解析模型
第2432-2437页
关键词: 应变硅 halo掺杂沟道 非对称双栅 短沟道效应
2019年第11期
《电子学报》
应变Si调制掺杂NMOSFET电子面密度模型
第2056-2058页
关键词: 应变硅 调制掺杂 电子面密度 阈值电压
2005年第11期
《电子学报》
对称三材料双栅
应变硅
MOSFET亚阈值电流与亚阈值斜率解析模型
第2768-2772页
关键词: 亚阈值电流 亚阈值斜率 三材料双栅 应变硅
2018年第11期
《电子学报》
德州仪器推出首款采用先进65纳米工艺的无线数字基带处理器——新技术使集成的SoC解决方案能够实现更高性能、更代功耗
第148-148页
关键词: 解决方案 纳米工艺 德州仪器 数字基带处理器 推出 无线 功耗 soc 性能 集成 2005年 工艺技术 cmos 纳米设计 纳米产品 晶体管 全功能 ti 应变硅 制造商 半导体 器件
2005年第04期
《工业和信息化教育》
弹性应变工程
第941-948页
关键词: 越小越强 超强材料 应变工程 应变硅 纳米材料 带隙 激子 催化
2018年第12期
《中国材料进展》
英特尔下一代65纳米工艺制程投入使用
第101-101页
关键词: 英特尔公司 65纳米工艺 sram 应变硅 晶体管
2004年第01A期
《电子产品世界》
应变硅
第243-243页
关键词: 应变硅 高电子迁移率 空穴迁移率 工艺要求 晶格结构 器件性能 晶体结构 pmos nmos 收缩力 应力
2005年第05期
《微纳电子技术》
提升亚微米Si CMOS器件性能的新技术——应变Si技术
第13-18页
关键词: sige 应变硅 cmos器件
2005年第01期
《微纳电子技术》
IEDM大会展现微米/纳米电子技术方面的进步
第3-3页
关键词: iedm 电子皮肤 应变硅 存储器 微米电子技术 纳米电子技术
2004年第02期
《今日电子》
未来的半导体技术
第1-2页
关键词: 硅材料 半导体技术 应变硅 soi 化合物半导体
2004年第07期
《电子工业专用设备》
半导体工业的发展概况
第5-12页
关键词: 半导体工业 硅集成电路 发展趋势 应变硅
2005年第03期
《电子工业专用设备》
300mm晶圆芯片制造技术的发展趋势
第27-29页
关键词: 300mm晶圆 芯片制造技术 发展趋势 90nm工艺 光刻 铜互连 低k绝缘层 应变硅
2004年第01期
《半导体技术》
TI公司披露新的低功耗芯片技术
第56-56页
关键词: 德州仪器公司 应变硅 低功耗 晶体管
2004年第07期
《集成电路应用》
减少芯片耗电量途径以提高性能
第26-26页
关键词: 耗电量 instruments 芯片 德州仪器公司 成本效益 整体性能 管理技术 技术会议 积体电路 研究成果 vlsi 晶体管 大幅度 研究组 半导体 应变硅 超大型 夏威夷 电源
2004年第13期
《中国科技信息》
芯片功耗管理:权衡性能和功耗
第36-40页
关键词: 芯片功耗管理 嵌入式控制 漏电功耗 多内核处理器 应变硅
2006年第10期
《软件》
应变硅
PMOSFET中应变的LACBED研究
第312-321页
关键词: 应变硅 金属氧化物半导体场效应晶体管 大角度会聚束电子衍射
2007年第04期
《电子显微学报》
45nm节点在悄悄行动
第51-54页
关键词: 技术节点 sram 离子掺杂 英特尔 应变硅 铜互连 管结构 soi 光刻 等效
2006年第05期
《中国集成电路》
应变硅
n-MOSFET中电子迁移率的增强及其温度特性
第436-439页
关键词: 应变硅 锗硅 迁移率增强 温度特性
2007年第04期
《固体电子学研究与进展》
应变硅
pMOS晶体管沟道应变的有限元研究
第815-818页
关键词: 有限元 应变硅 应变 锗硅 pmos
2007年第06期
《微电子学》
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