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利用Raman光谱测定硅(100)晶面单轴应变的应变系数第1033-1038页
关键词: raman光谱  应变硅  晶格振动  
2010年第07期
一种非对称双栅应变硅HALO掺杂沟道MOSFET阈值电压解析模型第2432-2437页
关键词: 应变硅  halo掺杂沟道  非对称双栅  短沟道效应  
2019年第11期 《电子学报》
应变Si调制掺杂NMOSFET电子面密度模型第2056-2058页
关键词: 应变硅  调制掺杂  电子面密度  阈值电压  
2005年第11期 《电子学报》
对称三材料双栅应变硅MOSFET亚阈值电流与亚阈值斜率解析模型第2768-2772页
关键词: 亚阈值电流  亚阈值斜率  三材料双栅  应变硅  
2018年第11期 《电子学报》
德州仪器推出首款采用先进65纳米工艺的无线数字基带处理器——新技术使集成的SoC解决方案能够实现更高性能、更代功耗第148-148页
关键词: 解决方案  纳米工艺  德州仪器  数字基带处理器  推出  无线  功耗  soc  性能  集成  2005年  工艺技术  cmos  纳米设计  纳米产品  晶体管  全功能  ti  应变硅  制造商  半导体  器件  
弹性应变工程第941-948页
关键词: 越小越强  超强材料  应变工程  应变硅  纳米材料  带隙  激子  催化  
2018年第12期 《中国材料进展》
英特尔下一代65纳米工艺制程投入使用第101-101页
关键词: 英特尔公司  65纳米工艺  sram  应变硅  晶体管  
2004年第01A期 《电子产品世界》
应变硅第243-243页
关键词: 应变硅  高电子迁移率  空穴迁移率  工艺要求  晶格结构  器件性能  晶体结构  pmos  nmos  收缩力  应力  
2005年第05期 《微纳电子技术》
提升亚微米Si CMOS器件性能的新技术——应变Si技术第13-18页
关键词: sige  应变硅  cmos器件  
2005年第01期 《微纳电子技术》
IEDM大会展现微米/纳米电子技术方面的进步第3-3页
关键词: iedm  电子皮肤  应变硅  存储器  微米电子技术  纳米电子技术  
2004年第02期 《今日电子》
未来的半导体技术第1-2页
关键词: 硅材料  半导体技术  应变硅  soi  化合物半导体  
半导体工业的发展概况第5-12页
关键词: 半导体工业  硅集成电路  发展趋势  应变硅  
300mm晶圆芯片制造技术的发展趋势第27-29页
关键词: 300mm晶圆  芯片制造技术  发展趋势  90nm工艺  光刻  铜互连  低k绝缘层  应变硅  
2004年第01期 《半导体技术》
TI公司披露新的低功耗芯片技术第56-56页
关键词: 德州仪器公司  应变硅  低功耗  晶体管  
2004年第07期 《集成电路应用》
减少芯片耗电量途径以提高性能第26-26页
关键词: 耗电量  instruments  芯片  德州仪器公司  成本效益  整体性能  管理技术  技术会议  积体电路  研究成果  vlsi  晶体管  大幅度  研究组  半导体  应变硅  超大型  夏威夷  电源  
2004年第13期 《中国科技信息》
芯片功耗管理:权衡性能和功耗第36-40页
关键词: 芯片功耗管理  嵌入式控制  漏电功耗  多内核处理器  应变硅  
2006年第10期 《软件》
应变硅PMOSFET中应变的LACBED研究第312-321页
关键词: 应变硅  金属氧化物半导体场效应晶体管  大角度会聚束电子衍射  
2007年第04期 《电子显微学报》
45nm节点在悄悄行动第51-54页
关键词: 技术节点  sram  离子掺杂  英特尔  应变硅  铜互连  管结构  soi  光刻  等效  
2006年第05期 《中国集成电路》
应变硅n-MOSFET中电子迁移率的增强及其温度特性第436-439页
关键词: 应变硅  锗硅  迁移率增强  温度特性  
应变硅pMOS晶体管沟道应变的有限元研究第815-818页
关键词: 有限元  应变硅  应变  锗硅  pmos  
2007年第06期 《微电子学》