解决方案纳米工艺德州仪器数字基带处理器推出无线功耗soc性能集成2005年工艺技术cmos纳米设计纳米产品晶体管全功能ti应变硅制造商半导体器件
摘要:[2005年3月10日,北京讯]日前,德州仪器(TI)宣布推出采用先进65纳米(nm)CMOS工艺技术的全功能无线数字基带器件。该解决方案实现了TI一年前在发面65纳米工艺细节时所做的承诺,此技术可使90纳米设计面积缩小一半,利用应变硅将晶体管的性能提高40%,并将空闲晶体管的功耗降低1,000倍。TI是最早推出可实际应用的65纳米产品的半导体制造商之一。
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