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HFCVD法制备金刚石薄膜影响因素的研究进展
第20-22页
关键词: 热丝化学气相沉积 金刚石薄膜 表面预处理 基片温度 沉积气压
2016年第03期
《广州化工》
材料
第9-18页
关键词: 薄膜结构 光致发光 基片温度 发光学报 复合涂料 生长机理 超荧光 微结构特征 半导体光电 液晶高分子
2005年第05期
《电子科技文摘》
离子束溅射工艺中的
基片温度
及其控制方法
第187-190页
关键词: 离子束溅射 基片温度 温度控制 薄膜生长
2004年第02期
《光学仪器》
基片温度
对Fe—N化合物薄膜制备及磁性能的影响
第24-27页
关键词: 基片温度 磁性能 双离子束溅射法 x射线衍射仪 绝缘材料
2004年第01期
《电工材料》
真空镀膜工艺参数对于薄膜性能的影响
第51-54页
关键词: 薄膜性能 工艺参数 真空镀膜工艺 薄膜光学 基片温度 真空镀膜机 反应蒸镀 真空度 沉积速率 离子轰
2011年第05期
《国防制造技术》
基片温度
对氧化钒薄膜结构与电性能的影响
第471-473页
关键词: 五氧化二钒 真空蒸发 退火 vox薄膜 基片温度 电阻温度系数
2004年第06期
《压电与声光》
直流磁控溅射工艺对ZnO薄膜结构影响的研究
第35-39页
关键词: 直流磁控溅射工艺 zno薄膜 薄膜结构 基片温度 c轴取向 晶格结构 退火 氩氧比 结晶质量
2004年第01期
《人工晶体学报》
衬底温度对Al2O3薄膜微观组织和电阻率的影响
第1-3页
关键词: al2o3薄膜 基片温度 反应溅射 电阻率
2005年第06期
《现代冶金》
真空蒸发法制备氧化钒薄膜的研究
第17-19页
关键词: 氧化钒薄膜 基片温度 真空蒸发法 x射线衍射 绝对值 室温 表面形貌 制备 片材 v2o5
2005年第01期
《硅酸盐通报》
基片温度
对LiCoO2薄膜结构与电化学性能的影响
第106-109页
关键词: licoo2 磁控溅射 基片温度
2012年第01期
《化学研究与应用》
离子束反应溅射ZnO薄膜的晶体结构及光学、电学性质研究
第430-433页
关键词: 基片温度 zno薄膜 光学 离子束 电学性质 晶体结构 禁带宽度 反应溅射 薄膜电阻 c轴取向
2004年第06期
《真空科学与技术学报》
氮化铁薄膜的结构及磁性研究
第46-47页
关键词: 基片温度 结构 磁性
2005年第06期
《长春大学学报》
溅射条件对Ni80Fe20薄膜各向异性磁电阻的影响
第3-5页
关键词: ni80fe20薄膜 各向异性磁电阻 基片温度 溅射气压
2007年第08期
《物理实验》
用SF6/O2气体ICP刻蚀硅深槽
基片温度
对刻蚀速率的影响
第1-3页
关键词: icp 基片温度 刻蚀 刻蚀速率
2006年第06期
《河南机电高等专科学校学报》
基片温度
对TiO2薄膜表面形貌和性能的影响
第382-385页
关键词: tio2薄膜 基片温度 原子力显微镜 表面形貌 表面性能
2006年第03期
《材料科学与工程学报》
紫外光截止镀膜玻璃的射频磁控溅射法制备及表征
第142-145页
关键词: 射频溅射 紫外光截止镀膜玻璃 基片温度
2006年第01期
《稀有金属材料与工程》
NiCr薄膜电阻TCR的影响因素
第18-20页
关键词: tcr 真空度 溅射速率 基片温度
2007年第01期
《真空》
工艺条件的改变对用大气开放式MOCVD方法制备TiO2薄膜的影响
第174-177页
关键词: mocvd tio2 基片温度
2007年第B08期
《航空学报》
基片温度
对Ni80Fe20薄膜结构和各向异性磁电阻的影响
第1-4页
关键词: ni80fe20薄膜 基片温度 结构 各向异性磁电阻
2007年第02期
《金属功能材料》
基片温度
对反应射频磁控溅射法制备掺杂CeO2电解质薄膜的影响
第134-139页
关键词: 反应射频磁控溅射 gdc电解质薄膜 基片温度 x射线衍射 原子力显微镜
2006年第Z1期
《真空科学与技术学报》
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