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HFCVD法制备金刚石薄膜影响因素的研究进展第20-22页
关键词: 热丝化学气相沉积  金刚石薄膜  表面预处理  基片温度  沉积气压  
2016年第03期 《广州化工》
材料第9-18页
关键词: 薄膜结构  光致发光  基片温度  发光学报  复合涂料  生长机理  超荧光  微结构特征  半导体光电  液晶高分子  
2005年第05期 《电子科技文摘》
离子束溅射工艺中的基片温度及其控制方法第187-190页
关键词: 离子束溅射  基片温度  温度控制  薄膜生长  
2004年第02期 《光学仪器》
基片温度对Fe—N化合物薄膜制备及磁性能的影响第24-27页
关键词: 基片温度  磁性能  双离子束溅射法  x射线衍射仪  绝缘材料  
2004年第01期 《电工材料》
真空镀膜工艺参数对于薄膜性能的影响第51-54页
关键词: 薄膜性能  工艺参数  真空镀膜工艺  薄膜光学  基片温度  真空镀膜机  反应蒸镀  真空度  沉积速率  离子轰  
2011年第05期 《国防制造技术》
基片温度对氧化钒薄膜结构与电性能的影响第471-473页
关键词: 五氧化二钒  真空蒸发  退火  vox薄膜  基片温度  电阻温度系数  
2004年第06期 《压电与声光》
直流磁控溅射工艺对ZnO薄膜结构影响的研究第35-39页
关键词: 直流磁控溅射工艺  zno薄膜  薄膜结构  基片温度  c轴取向  晶格结构  退火  氩氧比  结晶质量  
2004年第01期 《人工晶体学报》
衬底温度对Al2O3薄膜微观组织和电阻率的影响第1-3页
关键词: al2o3薄膜  基片温度  反应溅射  电阻率  
2005年第06期 《现代冶金》
真空蒸发法制备氧化钒薄膜的研究第17-19页
关键词: 氧化钒薄膜  基片温度  真空蒸发法  x射线衍射  绝对值  室温  表面形貌  制备  片材  v2o5  
2005年第01期 《硅酸盐通报》
基片温度对LiCoO2薄膜结构与电化学性能的影响第106-109页
关键词: licoo2  磁控溅射  基片温度  
2012年第01期 《化学研究与应用》
离子束反应溅射ZnO薄膜的晶体结构及光学、电学性质研究第430-433页
关键词: 基片温度  zno薄膜  光学  离子束  电学性质  晶体结构  禁带宽度  反应溅射  薄膜电阻  c轴取向  
氮化铁薄膜的结构及磁性研究第46-47页
关键词: 基片温度  结构  磁性  
2005年第06期 《长春大学学报》
溅射条件对Ni80Fe20薄膜各向异性磁电阻的影响第3-5页
关键词: ni80fe20薄膜  各向异性磁电阻  基片温度  溅射气压  
2007年第08期 《物理实验》
用SF6/O2气体ICP刻蚀硅深槽基片温度对刻蚀速率的影响第1-3页
关键词: icp  基片温度  刻蚀  刻蚀速率  
基片温度对TiO2薄膜表面形貌和性能的影响第382-385页
关键词: tio2薄膜  基片温度  原子力显微镜  表面形貌  表面性能  
紫外光截止镀膜玻璃的射频磁控溅射法制备及表征第142-145页
关键词: 射频溅射  紫外光截止镀膜玻璃  基片温度  
NiCr薄膜电阻TCR的影响因素第18-20页
关键词: tcr  真空度  溅射速率  基片温度  
2007年第01期 《真空》
工艺条件的改变对用大气开放式MOCVD方法制备TiO2薄膜的影响第174-177页
关键词: mocvd  tio2  基片温度  
2007年第B08期 《航空学报》
基片温度对Ni80Fe20薄膜结构和各向异性磁电阻的影响第1-4页
关键词: ni80fe20薄膜  基片温度  结构  各向异性磁电阻  
2007年第02期 《金属功能材料》
基片温度对反应射频磁控溅射法制备掺杂CeO2电解质薄膜的影响第134-139页
关键词: 反应射频磁控溅射  gdc电解质薄膜  基片温度  x射线衍射  原子力显微镜