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中子管靶材料对中子输出和溅射产额的影响
第14-20页
关键词: 中子管 srim 合金靶 中子输出 溅射产额
2018年第08期
《核技术》
Al0.7Sb2Te3
合金靶
的制备及性能研究
第727-732页
关键词: 合金靶 两相组成 近全致密
2019年第07期
《稀有金属》
p型透明导电的锡镓氧化物薄膜的制备及其表征
第93-95页
关键词: 透明导电 氧化物薄膜 p型 制备 表征 镓 锡 光学禁带宽度 空穴浓度 x射线衍射 金红石结构 热处理温度 磁控溅射 sno2 霍尔效应 温度过高 氧化温度 热氧化 合金靶 测试 透过率 可见光 吸收谱 子类型
2005年第02期
《真空科学与技术学报》
多弧离子镀(Ti,Al,Cr)N硬质膜的沉积工艺与力学性能
第16-18页
关键词: al 多弧离子镀 显微硬度 附着力 合金靶
2008年第05期
《微细加工技术》
多弧离子镀(Ti,Al,Zr)N多元超硬梯度膜的制备及力学性能研究
第329-333页
关键词: al 多弧离子镀 显微硬度 热震 合金靶
2010年第03期
《真空科学与技术学报》
Au80Sn20合金焊料制备工艺
第2089-2093页
关键词: au80sn20合金焊料 高功率二极管激光器 磁控溅射 合金靶
2012年第09期
《强激光与粒子束》
霍尼韦尔推出新型半导体铜锰溅射靶材
第4-4页
关键词: 溅射靶材 半导体 铜锰 专利技术 使用寿命 生产工艺 生产商 合金靶
2014年第07期
《电子设计工程》
霍尼韦尔推出新型半导体铜锰溅射靶材
第315-315页
关键词: 溅射靶材 半导体 铜锰 专利技术 使用寿命 生产工艺 生产商 合金靶
2014年第04期
《半导体技术》
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