来源：学术之家整理 2024-04-01 15:27:0247人看过
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周期：季刊
《中国专利与商标》杂志简介：
《中国专利与商标》创刊于1985年，由中国专利与商标杂志社主管，中国专利与商标杂志社主办，公开发行部级期刊，现为（季刊），CN：，ISSN：1680-6050。创刊以来一直被上海图书馆馆藏、维普收录(中)、国家图书馆馆藏、收录，是各种政法类信息交流的网站。
《中国专利与商标》杂志刊载内容涉及的栏目：
業内信息、專題文章、專利、商標、商業秘密、知識産權制度、視角
