来源：学术之家整理 2025-03-18 15:39:49
《Technical Physics Letters》中文名称：《技术物理快报》，创刊于1997年，由Pleiades Publishing出版商出版，出版周期Monthly。
《技术物理快报》是《技术物理》的姊妹刊，它快速发表具有潜在技术应用的理论和实验物理学的发展成果。最近的重点包括许多关于气体激光器和半导体激光的论文，以及许多关于高温超导的报告。母刊《技术物理》对等离子体物理学的出色报道也出现在此刊物中，它快速传播所有领域理论和实验工作的发展成果，并可能具有技术应用。涵盖的主题包括基础和应用物理学；等离子体物理学；固体物理学；物理电子学；加速器；微波电子设备；全息术。
旨在及时、准确、全面地报道国内外PHYSICS, APPLIED工作者在该领域的科学研究等工作中取得的经验、科研成果、技术革新、学术动态等。
| 文章引用名称 | 引用次数 |
| Conditions of Attaining a Su... | 11 |
| Room Temperature Lasing of S... | 7 |
| Synthesis of Oxygen-Doped Gr... | 7 |
| High-Power Quantum-Cascade L... | 7 |
| Adaptive Properties of Spiki... | 6 |
| A Precise Algorithm of Memri... | 6 |
| Microwave Giant Magnetoresis... | 5 |
| A New Type of Carbon Nanostr... | 5 |
| Studying the Pyroelectric Ef... | 5 |
| Formation of Weak Singularit... | 5 |
| 被引用期刊名称 | 数量 |
| TECH PHYS LETT+ | 276 |
| TECH PHYS+ | 152 |
| SEMICONDUCTORS+ | 81 |
| PHYS SOLID STATE+ | 65 |
| PLASMA PHYS REP+ | 48 |
| IEEE T PLASMA SCI | 46 |
| J COMMUN TECHNOL EL+ | 40 |
| PHYS PLASMAS | 38 |
| J APPL PHYS | 34 |
| RUSS PHYS J+ | 34 |
| 引用期刊名称 | 数量 |
| TECH PHYS LETT+ | 276 |
| TECH PHYS+ | 115 |
| APPL PHYS LETT | 110 |
| PHYS SOLID STATE+ | 90 |
| J APPL PHYS | 88 |
| SEMICONDUCTORS+ | 87 |
| PHYS REV B | 70 |
| PHYS REV LETT | 52 |
| PHYS-USP+ | 45 |
| J PHYS D APPL PHYS | 33 |
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