来源：学术之家整理 2025-03-18 15:39:49
《Technical Physics》中文名称：《技术物理》，创刊于1997年，由Pleiades Publishing出版商出版，出版周期Monthly。
《技术物理学》是一本包含应用物理学各个方面实用信息的期刊，尤其是仪器和测量技术。特别强调等离子体物理学和相关领域，例如电磁场中的带电粒子研究、同步辐射、电子和离子束、气体激光和放电。其他期刊主题是凝聚态物质的性质，包括半导体、超导体、气体、液体和不同材料。
旨在及时、准确、全面地报道国内外PHYSICS, APPLIED工作者在该领域的科学研究等工作中取得的经验、科研成果、技术革新、学术动态等。
| 文章引用名称 | 引用次数 |
| In Situ Modification and Ana... | 7 |
| Lasing in 9.6-m Quantum Casc... | 6 |
| Melting Behaviour of Fractal... | 5 |
| Turn-on Dynamics of Quantum ... | 5 |
| Phonon Thermal Conductivity ... | 5 |
| Magnetoelastic Waves in Subm... | 4 |
| Ten Approaches to Define the... | 4 |
| Dynamics of the Initial Stag... | 4 |
| Flexomagnetic and Flexoantif... | 4 |
| Development of Technological... | 4 |
| 被引用期刊名称 | 数量 |
| TECH PHYS+ | 339 |
| TECH PHYS LETT+ | 115 |
| PLASMA PHYS REP+ | 75 |
| PHYS PLASMAS | 68 |
| IEEE T PLASMA SCI | 66 |
| PHYS SOLID STATE+ | 66 |
| RUSS PHYS J+ | 55 |
| SEMICONDUCTORS+ | 55 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 50 |
| PHYS-USP+ | 39 |
| 引用期刊名称 | 数量 |
| TECH PHYS+ | 339 |
| J APPL PHYS | 165 |
| TECH PHYS LETT+ | 152 |
| PHYS SOLID STATE+ | 113 |
| APPL PHYS LETT | 106 |
| PHYS REV B | 82 |
| PHYS REV LETT | 73 |
| PHYS-USP+ | 63 |
| J PHYS D APPL PHYS | 54 |
| J EXP THEOR PHYS+ | 51 |
声明：该作品系作者结合互联网公开知识整合。如有错漏请联系我们，我们将及时更正。
