来源：学术之家整理 2025-03-18 15:36:27
《Ieee Transactions On Plasma Science》中文名称：《IEEE Transactions On Plasma Science》，创刊于1973年，由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版，出版周期Bimonthly。
范围涵盖等离子体科学理论和应用的各个方面。它包括以下领域：磁流体力学；热电子学和等离子体二极管；基本等离子体现象；气态电子学；微波/等离子体相互作用；电子、离子和等离子体源；空间等离子体；强电子和离子束；激光-等离子体相互作用；等离子体诊断；等离子体化学和加工；固态等离子体；等离子体加热；用于受控聚变研究的等离子体；高能量密度等离子体；等离子体物理的工业/商业应用；等离子体波和不稳定性；以及高功率微波和亚毫米波的产生。
旨在及时、准确、全面地报道国内外PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS工作者在该领域的科学研究等工作中取得的经验、科研成果、技术革新、学术动态等。
| 文章引用名称 | 引用次数 |
| Overview of the HCPB Researc... | 12 |
| Two-Wave Cherenkov Oscillato... | 12 |
| High-Performance Filtering A... | 11 |
| Neutron Diagnostics in the L... | 10 |
| Characterization of a Compac... | 10 |
| A Primer on Pulsed Power and... | 10 |
| Preparation and Commissionin... | 9 |
| Recent Progress in the WCLL ... | 9 |
| Corona Discharge-Induced Rai... | 9 |
| Bifurcation Analysis for Dus... | 8 |
| 被引用期刊名称 | 数量 |
| IEEE T PLASMA SCI | 2237 |
| PHYS PLASMAS | 585 |
| J PHYS D APPL PHYS | 364 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 296 |
| J APPL PHYS | 236 |
| AIP ADV | 211 |
| FUSION ENG DES | 209 |
| IEEE ACCESS | 201 |
| IEEE T ELECTRON DEV | 180 |
| PLASMA SCI TECHNOL | 172 |
| 引用期刊名称 | 数量 |
| IEEE T PLASMA SCI | 2237 |
| PHYS PLASMAS | 882 |
| J PHYS D APPL PHYS | 759 |
| IEEE T MAGN | 593 |
| J APPL PHYS | 583 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 427 |
| APPL PHYS LETT | 341 |
| PHYS REV LETT | 300 |
| REV SCI INSTRUM | 278 |
| IEEE T DIELECT EL IN | 268 |
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