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空间太阳能电源第28-30页
关键词: 空间太阳电池  太阳能电源  电池结构  光刻技术  抗辐射性能  si衬底  减反射膜  空间环境  电池性能  薄膜电池  
2006年第04期 《世界科学》
新型纳米压印光刻技术的研究和应用第39-41页
关键词: 纳米压印  光刻技术  应用  大规模集成电路  纳米技术  双核cpu  intel  电视宣传  
2009年第06期 《世界科学》
国内外集成电路光刻胶研究进展第17-20页
关键词: 半导体分立器件  集成电路制造  光刻胶  光致抗蚀剂  光刻技术  感光树脂  微细加工  化学材料  
2019年第10期 《新材料产业》
美国MIT研究结果显示电子束光刻可以到达9纳米的精度第32-32页
关键词: 美国麻省理工学院  电子束光刻  纳米  精度  显示  mit  euv光刻  光刻技术  
2011年第03期 《集成电路通讯》
英特尔与ASML加速开发下一代半导体关键制造技术第6-6页
关键词: 半导体制造商  英特尔公司  制造技术  开发  光刻技术  超紫外线  光刻设备  产业化  
2012年第03期 《集成电路通讯》
前沿科技动态第103-106页
关键词: 打印速度  前沿科技  柔性电子器件  光刻技术  双光子  微光学元件  微小结构  生物支架  
2019年第11期 《科技中国》
面向产业需求的21世纪微电子技术的发展(下)第480-487页
关键词: 微电子技术  沟道掺杂  超浅结工艺  金属栅材料  光刻技术  
2004年第07期 《物理》
一种自组装的长程有序纳米模式第186-187页
关键词: 长程有序  moore定律  自组装  纳米  光刻技术  存储能力  微处理器  光波波长  
2012年第03期 《物理》
车库里的美国创客第28-29页
关键词: 库里  创新氛围  政府工作报告  激光干涉仪  光刻技术  光刻工艺  二手设备  创业期  堪萨斯城  非常措施  
2015年第13期 《齐鲁周刊》
瑞红RZJ-304光刻胶光刻工艺研究第20-24页
关键词: 光刻技术  光栅掩模版  
美开发超轻型新材料可承载自身16万倍重量第-I0013页
关键词: 新材料  超轻型  重量  开发  麻省理工学院  国家实验室  承载  光刻技术  
2014年第20期 《科学技术创新》
计算机导航种植牙科学,精确的牙种植术:结合专门的立体光刻技术产生的钻孔导向和种植手术设备第337-342页
关键词: 计算机导航  光刻技术  牙种植术  牙科学  手术设备  钻孔  立体  计算机x线断层扫描  
美开发超轻型新材料可承载自身16万倍重量第3-3页
关键词: 新材料  超轻型  重量  开发  承载  麻省理工学院  光刻技术  国家实验室  
2014年第19期 《科技创新导报》
四大公司联手研发纳米光刻技术目标为线宽22纳米第2-2页
关键词: 纳米光刻  公司  技术目标  线宽  计算机芯片  研发  纽约州  光刻技术  联合开发  
2005年第22期 《科技资讯》
集成电路前沿工艺:在纳米尺度上沟通宏观世界与微观宇宙第61-65页
关键词: 大规模集成电路  加工工艺  宏观世界  纳米尺度  宇宙  微观  光刻技术  增长曲线  
2018年第04期 《前沿科学》
新型液晶微光学器件——分子取向的设计和先进光刻技术第274-274页
关键词: 微光学器件  液晶分子  光刻技术  分子取向  设计  snell定律  州立大学  激光光束  
2019年第02期 《化工新型材料》
基于电诱导沉积原理制备形状可控的海藻酸钙-多聚赖氨酸水凝胶微封装胶囊第145-150页
关键词: 电诱导沉积  光刻技术  微电极  微封装胶囊  
美科学家使光刻技术实现20纳米工艺芯片新突破第34-34页
关键词: 光刻技术  掩模  纳米工艺  威斯康星大学  摩尔定律  bright  纳米技术  半导体生产  感光性树脂  晶体管数量  
2004年第02期 《半导体信息》
英特尔EUV光刻技术研发获重要突破第30-30页
关键词: 光刻技术  euv  掩模  远紫外线  计算机芯片  试用阶段  半导体制造商  最小尺寸  印刷技术  试验线  
2004年第06期 《半导体信息》
Elpida Memory公司90 nm硅晶片工艺第23-23页
关键词: 硅芯片  硅晶片  elpida  memory  nm  生产效率  缺陷率  光刻技术  批量生产  存储单元  连接电路  
2005年第03期 《半导体信息》