英特尔EUV光刻技术研发获重要突破

作者：江兴光刻技术euv掩模远紫外线计算机芯片试用阶段半导体制造商最小尺寸印刷技术试验线

摘要：<正> 英特尔公司日前宣布,在远紫外线(EUV)光刻技术开发方面,取得两项重要成果里程碑式的突破。英特尔公司安装了全球第一套商用EUV光刻工具,并建立了一条EUV掩模试产线,表明该技术已从研发阶段进入试用阶段。光刻技术是用于将电路印刷到计算机芯片的技术。为了在一枚芯片上安装更多晶体

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