作者：王春洪; 段广洪; 朱煜光刻机同步扫描误差分析
摘要：步进扫描光刻机是半导体制造行业的关键设备，在这种光刻机系统中，硅片台和掩模台要按照1：4的速度比进行同步扫描运动，同步运动性能指标以移动平均差（MA）和移动标准差（MSD）来度量。扫描过程中的同步性能对光刻机最终能生产出的芯片特征尺寸有着很大的影响。文章对模拟硅片一掩模台同步运动的同步误差进行了分析，给出在一定的扫描速度下，不同频率范围的误差成分对MA和MSD的影响的规律。分析结果对于有针对性地提高同步性能指标具有一定的指导意义。
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