作者：孙超伦; 王晓方; 潘启发; 胡殷; 刘柯钊金属铀x射线光电子能谱低压氧化活化能
摘要：X射线光电子能谱技术被广泛用于研究材料表面研究。XPS谱图能够准确及时反映101 nm深度内材料表面元素组成与结构信息。利用激发电子的穿透特性,XPS能够作为半定量的研究手段。本文利用XPS测厚技术研究了金属铀在5×10^-6 Pa氧气压力、温度低于413 K条件下的氧化反应动力学行为,在该研究条件下金属铀初始氧化遵循抛物线规律,反应活化能为23.9 kJ/mol。
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