作者：李春伟; 田修波; 宋炜昱; 赵美君; 张旭; ...高功率脉冲磁控溅射磁场工作气压基体偏压靶基间距脉冲频率脉冲宽度
摘要：研究磁场增强高功率脉冲磁控溅射技术的放电特性在不同工作参数下的演变规律。利用数字示波器采集HiP-IMS的基体离子电流用于表征其放电特性的变化。结果表明：靶放电电压不同时基体离子电流对工作气压的响应不同，较低靶电压时基体离子电流平均值随工作气压的增加逐渐增加；而较高靶电压时基体离子电流平均值随工作气压增加迅速增加后趋于稳定。基体离子电流随基体偏压的变化表现出两个特征，较低基体偏压时的基体离子电流在脉冲开始阶段呈现出较强的电子流波段，而基体偏压较高时则未出现电子流。不同脉冲频率及靶电压下的基体离子电流的波形形状大致相似，但当处于较高靶电压时存在一个明显特征，即当脉冲结束后离子流会出现一个尖锐峰值。随脉冲宽度的增加，基体离子电流负向电子流和正向离子流均逐渐增大。
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