作者：杨伟方 梁展鸿 侯亚奇 庄大明 张弓zao陶瓷靶材薄膜磁控溅射电阻率透过率
摘要：溶胶-凝胶方法制备的ZnO和Al2O3混合粉末经冷压预成型加真空低压烧结，制备了高致密度（相对密度99％）、低成本的ZAO陶瓷靶材。研究了ZAO靶材与无氧铜的粘接性能。用中频交流磁控溅射ZAO靶材的工艺制备了ZAO薄膜。利用SEM和XRD分析测试了陶瓷靶材断口形貌以及靶材和薄膜的结构。试验结果表明：制得的ZAO靶材具有良好的粘接性和溅射性能，内部组织致密，靶材中有明显的ZnAl2O4相。在优化沉积工艺条件下，制备的ZAO薄膜方块电阻为35n，电阻率可达3．84×10^-4Ω·cm，可见光透过率（A=550nm）可达91．1％。沉积态的ZAO薄膜具有很好的结晶性，并呈现（002）择优取向。ZAO薄膜有明显的紫外吸收限，带隙Eg约为3．76eV。ZAO靶材的工业化磁控镀膜试验也取得了较好的结果。
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