作者：吴振宇; 刘毅; 汪家友; 杨银堂电子回旋共振等离子体化学气相沉积膜厚均匀性同轴表面波ecr氮化硅薄膜高密度等离子体ftir光谱强磁场
摘要：研制了一台永磁ECR等离子体化学气相沉积系统.通过同轴开口电介质空腔产生表面波,利用高磁能积Nd-Fe-B磁钢块的合理分布形成高强磁场,通过共振磁场区域内的电子回旋共振效应产生大面积均匀的高密度等离子体.进行了ECR等离子体化学气相沉积氧化硅和氮化硅薄膜工艺的研究.6英寸片内膜厚均匀性优于95%,沉积速率高于100 nm/min,FTIR光谱分析表明薄膜中H含量很低.
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