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片上电子源的研究现状(一)

作者:杨威; 魏贤龙片上电子源场发射内场发射热发射

摘要:本文主要回顾总结近数十年来片上电子源的研究工作及最新进展,包括场发射片上电子源、内场发射片上电子源以及新型热发射微型片上电子源。本文从这些片上电子源的基本原理、加工制备以及工作性能(包括工作电压、工作真空、发射电流、发射电流密度和发射效率)等方面进行比较,分析各种片上电子源的优劣点,为片上电子源的发展现状做一个简单的总结。

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真空

《真空》(CN:21-1174/TB)是一本有较高学术价值的大型双月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《真空》社会效益与经济效益与日俱增,在国内真空界享有盛誉。被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。

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