作者：张以忱离子镀膜真空放电空间蒸发源沉积速度蒸发速率空间电场界面应力
摘要：(接2018年第5期第88页)6.3蒸发源功率蒸发源功率提高,则膜材蒸发率增加,一般而言,膜的沉积速度也相应增加。蒸发源功率对蒸发速率的影响比较直接,但蒸发粒子达到基片之前需飞越放电空间,要受到空间气体粒子的碰撞、散射,受到空间电场的吸引和拒斥,到达基片后会受到反溅和反应,成膜过程又会受到界面应力,膜生长应力,热应力的影响。因此,蒸发源的功率对沉积速率的影响不那么直接。
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