作者：梁家伟; 林晓琪; 毕焰枫; 冯朗丹; 庄素娜...辉光放电发射光谱深度剖析薄膜自偏压溅射速率
摘要：随着射频辉光放电光谱仪在镀层和薄膜深度剖析中的应用逐渐深入,人们对其工作原理、设置参数对测试的影响也越来越关注。本文通过在不同气体工作压强和溅射功率下,对镍/银双层膜样品进行了辉光放电深度剖析的实验,探讨了自偏压与工作压强和溅射功率的关系。实验结果表明,自偏压随工作压强的增加而减小;随着溅射功率的增加,溅射速率随之增加,在特定的工作压强下会出现一个最大的溅射速率;溅射坑的形貌主要取决于气体的工作压强。
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