作者:张以忱电位降靶面阴极溅射电源输出电压绝缘膜溅射系统反应气体反应溅射反应磁控溅射阴极表面
摘要:③弧光放电 如前所述,在直流反应磁控溅射沉积化合物薄膜时,阴极溅射靶会出现靶中毒现象,即在靶面上建立起愈来愈高的正电位Up,而在一定的靶电源输出电位下,靶阴极位降区的电位降随着Up的升高而降低,直到阴极位降区的电位降减小到零,导致放电熄灭,溅射停止。
注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社
《真空》(CN:21-1174/TB)是一本有较高学术价值的大型双月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《真空》社会效益与经济效益与日俱增,在国内真空界享有盛誉。被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
省级期刊
人气 158523 评论 73
统计源期刊
人气 153576 评论 71
部级期刊
人气 143392 评论 68
北大期刊、统计源期刊
人气 115183 评论 46