作者：徐日宏; 张忠义; 张振华; 王琦; 姜宏磁控溅射ito薄膜
摘要：通过对立式多箱体连续磁控溅射镀膜生产线的工艺方法和工艺装备的改进,改善现有OGS用ITO低温镀膜技术的各项缺陷,并使手机盖板ITO一次成膜工艺得以确定。研究表明：一次成膜工艺制品的热稳定性优良,在200℃下烘烤20min其方块电阻变化△R□〈4%;透过率均可达到91%左右,色差值△E〈1.1,雾度值亦满足要求;一次成膜的生产工艺合格率达到了92-96%以上,可达量产要求。
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