作者：张以忱溅射镀膜磁场结构真空磁场分布纵向磁场二次电子溅射系统横向磁场
摘要：图70给出了在非平衡四靶闭合磁场结构和四靶镜像磁场结构中，磁控溅射系统的磁场分布情况。比较这两种结构的磁场分布情况，可以看出两者在靶面附近的磁场差别不大，在内外磁极之间以横向磁场为主，通过对电子的紧约束，形成一个电离度很高的等离子体阴极区。区内的正离子对靶面的强烈溅射刻蚀构成了靶材中性粒子的主要输送源。在较强的外环磁极处，以纵向磁场为主，成为二次电子逃离靶面的主要通道。对于闭合磁场结构，该纵向磁场进而成为向薄膜沉积区域输送带电粒子的主要通道。
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
