磁控溅射膜厚均匀性与靶-基距关系的研究

作者：徐均琪; 易红伟; 蔡长龙; 杭凌侠磁控溅射薄膜厚度均匀性等离子体氩气

摘要：从理论上分析了平面磁控溅射靶沉积薄膜的厚度均匀性。根据磁控溅射阴极靶刻蚀的实际测量数据，建立了靶的刻蚀速率方程，以此为依据，对膜厚均匀性的有关公式进行了讨论。采用计算机计算了基片处于不同靶一基距时，膜厚均匀性的分布。研究结果表明，随着靶基距的增加，膜厚均匀性逐渐变好。在同样的靶基距下，沿靶长度方向的均匀性明显优于宽度方向。最后，通过实验证实了上述结论。

注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社