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低渗刺激下晶状体上皮细胞HLE B-3调节性容积回缩机制的研究

作者:庄晓东; 翁景宁晶状体上皮细胞调节性容积回缩低渗刺激细胞离子通道

摘要:背景调节性容积回缩(RVD)现象在生物界各种细胞中普遍存在,它不仅与细胞容积的稳定性相关,还参与多种细胞的生理功能和病理过程,但迄今为止,关于晶状体上皮细胞(LECs)的RVD机制研究仍较少。目的观察低渗刺激下人LECs系HLE B-3细胞株RVD的过程,并探讨其可能的作用机制及影响因素。方法应用氢离子缓冲剂(HEPES)将林格液分别配成质量分数45%、35%、25%和15%的低渗液(实际渗透压分别为165、195、225和255mOsm/kg),用NaOH将pH值调至7.4或6.8。HLE B-3在含质量分数10%胎牛血清(FBS)的DMEM/F12培养基中进行体外培养,待细胞贴壁后稳定生长时,将HLEB一3细胞置于特制的培养板内,分别用不同质量分数的低渗林格液灌流培养,观察其对细胞RVD的影响。以45%低渗林格液刺激细胞作为对照组,通过Cl^-、K^+通道阻断剂干预,分别用无HCO3^+、无Ca^2+、无Cl^-或高K^+林格液灌流改变细胞外液离子成分或酸化溶液pH,在Image-Pro Plus6.0图像处理软件控制下实现时滞拍摄固定视野内的活细胞图像,分析细胞RVD的动态变化。结果在低渗刺激下细胞容积膨胀,随后即出现了RVD过程。45%低渗林格液刺激细胞产生RVD为(59.1±7.8)%,随着林格液渗透压的逐渐降低,细胞容积逐渐膨胀,细胞的RVD能力逐渐增强,细胞最大膨胀容积与RVD存在s形正相关(r=0.990,P〈0.05),当细胞最大膨胀容积在115%~135%时,RVD对其变化敏感。10mmol/L K^+通道阻断剂四乙基氯化铵(TEA)、5mmol/LBaCl2、100μmol/L5-硝基-2(3-苯丙胺),苯甲酸(NPPB)和相同浓度的氯Cl^-通道阻断剂二异硫氰基芪-2,2^+-二磺酸(DIDS)可分别使RVD减少(16.5±1.6)%、(14.7±2.28)%(P〈0.01)。当细胞外液为高K^+及无Cl-的环境时,RVD分别减少(5.8±1.6)%和(2.7±0.8

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