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4种粘接剂对牙本质粘接界面的纳米渗漏研究

作者:高晓利; 马淑媛; 黄怡; 赖仁发粘接剂牙本质扫描电镜纳米渗漏边缘密合性

摘要:目的:通过纳米渗漏检测技术,观察4种粘接剂对牙本质粘接界面的微观形态及纳米渗漏情况,为临床上纳米渗漏的预防和牙本质粘接剂的选择提供参考。方法:选取48颗正常第三磨牙,随机分为4组,分别用A(Single bond 2)、B(Clearfil SE Bond)、C(XenoⅢ)、D(Easy one)4种粘接剂制备试件,50%硝酸氨银溶液渗染,扫描电镜下观察比较粘接界面的纳米渗漏程度。结果:4种粘接剂均有纳米渗漏发生。A组的纳米渗漏位于混合层底部,B、C和D组全层均可见。其中,A和C组的纳米渗漏无显著性差异(P〉0.05),两者均多于B组,少于D组。结论:所有粘接剂均有纳米渗漏发生。全酸蚀粘接剂发生在混合层底部,自酸蚀粘接剂全层均可见。Clearfil SE Bond的纳米渗漏较Single bond 2和XenoⅢ少,Easy one的纳米渗漏最明显。

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