作者：颜磊 刘京雷 徐宏 任衍伦hp40合金原位氧化法低氧分压
摘要：采用原位氧化法于H2和水蒸汽形成的低氧分压环境中,在HP40合金表面制备复合氧化膜。用XRD、EDS和SEM分别表征合金表面氧化膜的物相、成分、形貌,以及在氧化层截面上各组元的线和面分布状态。结果表明,随着制备温度的升高,合金表面MnCr2O4尖晶石逐渐增加,其形貌由针状逐渐变为颗粒状,颗粒尺寸小于1μm;氧化膜的总厚度为7μm,由外向内分别为MnCr2O4尖晶石、Cr2O3和SiO2 3层。更多还原
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