作者：吴明忠 张德秋 王龙权 李慕勤 刘冬梅镁合金高功率磁控溅射氮气流量超硬膜
摘要：利用高功率磁控溅射（HPPMS）技术在无偏压及室温条件下,采用（Ti,Si10at%）靶在AZ31镁合金基体上制备了Ti-Si-N涂层,在基体与涂层之间插入Ti-Si及TiN层分别作为过渡层及缓冲层,对不同氮气流量下制备的涂层显微结构及纳米硬度进行了研究。实验表明：在AZ31软基体上可制备超硬度Ti-Si-N涂层,随着氮气流量增加膜中N含量增高,涂层颗粒尺寸远小于DCMS电源模式,当氩气氮气流量比为11∶5时TiN（200）出现择优取向,纳米压痕最大硬度值达48 GPa,远高于DCMS涂层硬度（33 GPa）。
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