作者：占启安窄带隙半导体光催化
摘要：概述了窄带隙半导体光催化材料的光催化反应机理、新型窄带隙半导体光催化材料的种类以及影响窄带隙半导体光催化材料的光催化活性的因素。介绍了传统半导体光催化材料的掺杂改性方法和一些新型的窄带半导体光催化材料。
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《中国陶瓷工业》（双月刊）创刊于1994年，由中国陶瓷工业协会;景德镇陶瓷大学主管，中国陶瓷工业协会;景德镇陶瓷大学主办，CN刊号为：36-1197/TS，自创刊以来，颇受业界和广大读者的关注和好评。 《中国陶瓷工业》主要刊登有关传统陶瓷、结构陶瓷、功能陶瓷、微晶玻璃、耐火材料、无机涂层、复合陶瓷材料、人工晶体等相关领域的研究报告、综合评述等。
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