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瓦特镀镍技术显现金属铜表面油潜手印工艺探析

作者:张晓顺; 田巍镀镍油质潜手印电流密度电解时间

摘要:目的解决金属铜表面油潜手印显现技术难题,进一步丰富手印显现的技术方法和理论体系.方法通过电化 学方法,利用金属离子在阴极表面的还原反应,研究了瓦特镀镍体系中金属铜表面油潜手印的显现工艺.结果利用 金属铜基体与金属镍镀层存在的明显色差可以清晰显出金属铜表面的油潜手印,显出的手印细节特征清晰,符合检 验鉴定工作的需要.结论在瓦特镀镍体系中,控制阴极电流密度为2.5A/dm2, 电解时间为3 0 0 s是比较适宜的显现工 艺参数,可应用于实际工作中金属铜表面油潜手印显现.

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中国司法鉴定

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