作者：崔爱莉; 殷方锐; 虢中浩; 王竑烨; 欧伦宇...无机化学中毒选择性催化还原技术催化剂x射线光电子能谱as形态机理
摘要：为探究中毒选择性催化还原法（selective catalytic reduction,SCR）脱硝催化剂中As的形态,并进一步探明催化剂As中毒机理,采用X射线光电子能谱（X-ray photoelectron spectroscopy,XPS）对中毒SCR脱硝催化剂进行表征,发现As以As2O3、As2O5、As2S3 3种形态存在,并由此推出As中毒机理为3种形态的As以不同吸附方式吸附于催化剂表面,造成催化剂氧化还原位和吸附酸性位减少,阻止了NH3吸附过程的进行,使得催化剂活性降低。
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