基础工艺超低功耗tsmc平台开发非挥发性设计人员性能需求
摘要：Synopsys近日宣布与TSMC达成合作，共同为TSMC22nm超低功耗（ULP）与22nm超低漏电（ULL）平台开发DesignWare基础IP。该基础IP包含用于TSMC22nm工艺的逻辑库、嵌入式内存以及一次性可编程（one-time programmable，OTP）非挥发性内存（non-volatile memories，NVM），能协助设计人员大幅降低功耗，同时满足各式应用的性能需求。
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