HI,欢迎来到学术之家,发表咨询:400-888-7501  订阅咨询:400-888-7502  股权代码  102064
0

纳米工艺可制造性设计EDA技术

作者:田之勤可制造性设计eda技术纳米工艺dfm标准单元库时序收敛for成品率

摘要:近几年来,可制造性设计(DFM,design for manufncturability)一直是全球EDA业界最热门的题材。似乎任何产品只要跟DFM沾上边,马上就修成正果,得道升天。综观诸子百家对于DFM的定义则是见仁见智,莫衷一是。就从各家EDA公司的网页上进行了解,DFM可以是优化标准单元库的成品率,或是压缩版图,也有说是优化晶圆映射(WaferMapping),以至于平坦化填充,以及时序收敛。很明显的,就以上所涵盖的领域来说并没有一个交集。也由此可知,DFM事实上是一个非常广阔的领域。因此,在开始谈DFM之前就必须先对本篇所提及的DFM做一个明确的定义。

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

中国集成电路

《中国集成电路》(CN:11-5209/TN)是一本有较高学术价值的大型月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。 《中国集成电路》报道内容涉及半导体微电子科学与技术及其应用的各个领域,包括微电子器件与电路的基础及其设计技术、电子设计自动化、工艺技术、设备材料、封装技术、产业发展、应用技术及市场等。

杂志详情