作者:樊乡半导体光刻技术psm技术离子束曝光技术极紫外光刻技术
摘要:文章通过对目前国内外光刻设备生产厂商对下一代光刻技术的开发及目前已经应用到先进生产线上的光刻技术及设备进行了对比研究,对光刻技术和光刻设备的发展趋势进行了介绍,并对我国今后半导体光刻技术及设备的发展提出了合理化建议。
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《中国高新技术企业》是一本有较高学术价值的旬刊,自创刊以来,读者遍布全国主要科研机构、政府、高等院校、高新园区、高新企业、公共场所及其他企事业单位。选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度,颇受业界和广大读者的关注和好评。 《中国高新技术企业》现已更名为《中国高新科技》。
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