作者：毕丹丹; 张立超; 时光浸没式光刻光学薄膜膜系设计环境适应性激光辐照寿命
摘要：深紫外光刻是目前集成电路制造的主流方法，为实现更小的元件特征尺寸，必须采用浸没式投影物镜以提高光学系统的分辨率，由此向其中的薄膜光学元件提出了众多苛刻的要求。本文介绍了适用于浸没式光刻系统的薄膜材料及膜系设计，以及高NA光学系统所需的大角度保偏膜系；对物镜中最关键的浸液薄膜的液体环境适应性、疏水及防污染等关键问题进行了讨论；对衡量浸没式光刻系统性能的重要因素镀膜元件激光辐照寿命，尤其是浸液环境下的元件辐照寿命进行了分析。
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