衍射光场飞秒激光光刻胶激光微细加工光学工艺抛光液微细加工技术半导体连续波二元光学元件
摘要：TN305．7 2005032365 硅基微结构制作及其在微分析芯片上的应用=Fabrication of silicon-based microstructures and their application in mi- crochipsE刊,中]／孙洋(清华大学深圳研究生院．广东,深 圳(518057)),钱可元…∥半导体光电．-2004,25(6)．- 477-479,483 基于一种新的湿法刻蚀条件和新型的凸角补偿结构, 以KOH溶液为腐蚀液,对单晶(100)Si材料进行了湿法刻
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