光刻胶准分子激光制作工艺透镜阵列技术与设备曝光电子中心光栅刻划光刻法
摘要：TN305.7 2004064472 用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅=Tri-layer resist fabrication technology of T-shaped gate using X-ray lithography[刊,中]/孙加兴(中科院微电子中心.北京(100029)),叶甜春…∥半导体学报.—2004,25(3).—358-360 采用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅,一次曝光、
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