微细加工技术离子束刻蚀电子束曝光机研究进展掩模技术关键技术问题曝光技术国家重点实验室微细加工光学技术中科院
摘要:论述了离子束曝光技术的原理、特点,分析了其面临的关键技术问题,如掩模技术、离子源技术、图像对准技术等,并介绍了这些年来国外的一些研究机构及公司在离子束曝光技术上的研究进展及
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《中国光学》(CN:22-1400/O4)是一本有较高学术价值的大型双月刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。
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