研究人员找到单步骤制程打造图案化石墨烯新方法

研究人员石墨制程单步图案化遮光罩

摘要：伊利诺大学香槟分校（University of Illinois，Urbana Champaign）的研究人员据称找到一种单步骤的室温制程，能以简单的遮光罩（shadowmask）快速为石墨烯电路制图，并将其转移至软性基板上。

注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社