作者：张连华 潘小东 李公平 王晓冬 柳学敏 林...dsmc方法磁控溅射团簇源团簇的尺寸
摘要：利用直接模拟蒙特卡洛方法（DSMC），模拟了磁控溅射气体团簇源中Cu^＋（Cu^-）的含量比例不同的条件下，Cu团簇的尺寸分布．模拟结果表明：随着含量比例的增加，团簇的尺寸分布变窄了，不带电的团簇的比例增加，不带电的铜团簇分布的最大值减小，相应的带正电荷和带负电荷团簇的比例减小；相同的含量比例下，带正电的团簇的尺寸分布与带负电荷的团簇的尺寸分布基本相同；初始Cu^-比Cu^＋的含量比例大时，输出的主要是带负电荷的团簇，带正电荷和不带电的团簇占很小的比例；Cu^-含量比例的增加，负Cu团簇的尺寸分布减小．
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