作者：彭维; 李杰; 程舸; 谢珍珍; 石磊印迹法铜离子吸附碳基材料吸附选择性
摘要：通过钨离子印记方法,合成了对铜离子有高选择性吸附性能的碳基材料。在四乙烯五胺（TEPA）、钨酸铵和葡萄糖摩尔比为1∶1∶5条件下,经水热法合成的碳基吸附材料能有效地吸附铜离子,对铜离子吸附的最佳p H=5。在Cd^2＋、Co^2＋、Cu2＋、Ni^2＋和Zn^2＋摩尔浓度相近体系中,离子印记碳基吸附材料对铜离子的吸附率高达97.2%,而对Cd^2＋、Co^2＋、Ni^2＋、Zn^2＋吸附率分别为20.1%、9.63%、20.3%、13.3%,表明这种离子印记碳基吸附材料对Cu2＋具有非常优异的选择吸附能力。
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