ZAO薄膜使用射频溅射法生长之参数的研究

作者：耿茜; 汪建华; 王升高zao陶瓷靶材zao薄膜rf溅射xrd原子力显微镜

摘要：以氧化铝锌陶瓷为溅射靶材，在氩气环境下，使用射频溅射法在玻璃基片上制备氧化铝锌（ZAO）薄膜。通过调节气体压强、基片温度、溅射功率制膜，得到以C轴（002）为选择取向的氧化锌薄膜。由XRD、原子力显微镜（AFM）等对薄膜进行分析。结果表明，制备薄膜的最佳条件为：溅射压强0．4Pa，溅射功率200W，基片温度300℃.

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