作者：张梦龙; 李立新; 王昌元; 刘新田; 袁聿德曝光剂量噪声频率特性
摘要：目的:通过实验测试MS CaWO4屏-Fuji片和稀土BaFCl:Eu-Fuji片二种屏-片系统的WS,在频率域上评价比较两者的噪声特性并分析噪声来源.方法:利用常规X线机曝光, 获得BaFCl:Eu屏-Fuji片、CaWO4屏-Fuji片、无屏Fuji片三种屏片的照片.每张照片的密度值应控制在1.0±0.05.用显微密度计依次对这些照片进行扫描,每张获得10万个密度值 ,作为离散随机信号来处理,用快速傅立叶变换计算威纳频谱.结果:当空间频率为0.1L p/mm时,无屏Fuji片的WS值为1.85×10-5mm2,分别是中速MS CaWO4屏-Fu ji片、稀土BaFCl:Eu-Fuji片的43%、72%;当空间频率为5Lp/mm时,无屏-Fuji片的WS值为6.9×10-6mm2,分别是BaFCl:Eu屏-Fuji片、MS CaWO4屏-Fuji片的81%、100 %.结论:①屏-片系统中,增感屏的结构斑点主要集中在低频区;②高速屏可降低成像所需的曝光量,但要以较高噪声水平为代价.
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