作者：陈伟文专利信息北京有色金属研究总院物理气相沉积方法多孔氧化铝制备方法退火处理专利申请号电化学抛光
摘要：专利名称:一种多孔氧化铝膜层及其制备方法专利申请号:2016112437297公布号:CN108251877A申请日:2016.12.29公开日:2018.07.06申请人:北京有色金属研究总院本发明公开了一种多孔氧化铝膜层及其制备方法。该多孔氧化铝膜层的孔径范围为5~100nm,厚度为5~100μm。其制备方法包括以下步骤:(1)采用物理气相沉积方法在多孔金属基材表面沉积铝膜;(2)对铝膜进行气氛退火处理;(3)对退火处理后的铝膜进行表面清洗和电化学抛光.
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