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电化学染色工艺进展及其商业化应用(二)

作者:车映红(译); 何叶丽(校)电化学染色商业化应用工艺进展氧化电位还原态介质体系氧化还原氧化物

摘要:3.2.1 介质体系 根据Nemst方程,理论上可通过调节还原物与氧化物的比例来获得溶液所要求的任何还原/氧化电位(取决于氢气的释放)。在电化学的任何阶段,溶液中都存在氧化还原对的氧化态和还原态。通过改变施加的电压,就可以改变氧化物或还原物的浓度,以及溶液的当前电位。

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印染

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