作者：姜凯; 施春红; 黄晓龙; 王珍宝分子筛膜晶种法气体渗透
摘要：以气相SiO_2为硅源,四丙基氢氧化铵（TPAOH）为模板剂,用晶种法在Al2O3圆片载体上制备了分子筛膜,使用X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）、红外光谱（IR）技术对制备的分子筛膜进行表征,并通过单组分气体渗透实验对制备的Silicalite-1分子筛膜的渗透性能进行了测试。结果表明,制备的分子筛膜为典型的Silicalite-1型分子筛膜,膜表面晶粒连续性致密性良好,无较大晶间孔和缺陷,膜层厚度约8μm。常温常压下,H2、N2在膜内的渗透率分别为4.35×10-6mol/（m2·s·Pa）和1.16×10-6mol/（m2·s·Pa）,膜的H2/N2理想分离因数为3.75。
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